"Бромистый водород применяется для очистки поверхности кремниевых пластин, служащих основной для интегральных микросхем. Ранее бромистый водород поставлялся в Россию зарубежными компаниями, но после введения санкций поставки были прекращены. За 2023-2024 годы химики ТГУ разработали отечественную технологию выпуска и очистки с использованием только российских реагентов, что обеспечивает технологическую независимость производства", - приводятся в сообщении слова руководителя проекта, директора Инжинирингового центра высокочистых веществ и материалов микроэлектроники ТГУ, профессора ХФ ТГУ Виктора Сачкова.
"Первые партии TDMAT уже отправлены российским предприятиям. В связи с тем, что государство определило развитие микроэлектроники как один из приоритетов, спрос на этот продукт оказался выше, чем на начальной стадии разработки технологии. Тем не менее, ИХТЦ готов произвести столько продукта, сколько понадобится российской промышленности. Внедрение технологий выпуска бромистого водорода и TDMAT электронного качества будет напрямую способствовать появлению качественной российской электроники и её импортонезависимости", - отмечается в сообщении.